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UFI 正分散 超短パルス用ミラー 25.4mm 700-1100nm

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UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors

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仕様

物理的および機械的特性

ウェッジ (分):
10
有効径 (%):
80
基板裏面側:
Commercial Polish
直径 (mm):
25.40 +0.00/-0.05
全厚 (mm):
6.35 ±0.20

光学的特性

コーティングスペック:
Ravg >99.5% @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)
GDD スペック:
+100fs2 @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)
波長範囲 (nm):
700 - 1100
イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
コーティングタイプ:
Dielectric
コーティング:
Positive Dispersion (700-1100nm)
設計波長 DWL (nm):
700 - 1100
入射角 (°):
5
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

法規制対応状況

RoHS 2015/863:
適合証明書:
Reach 235:

商品説明

UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラーは、この波長領域で大抵の材料と同じ符号となる正のGDDを提供します。この正分散チャープミラーは、パルス圧縮やハイブリッドプリズム/ミラーコンプレッサーなどのチャープパルス増幅器システムに用いることができます。本ミラーは、700 - 1100nmのs偏光とp偏光の両方に対して99.5%超の高反射率が得られます。本ミラーは、5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化しながら、設置面積を小さく維持します。UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラーは、優れた熱安定性をもつ25.4mm径の合成石英基板を採用し、NIR アプリケーション内への実装を可能にします。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。

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特注品

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当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平坦度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

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