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UFI 高度正分散 超短パルス用ミラー 25.4mm 3200nm

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UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors

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商品コード #17-063 5-7営業日
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ウェッジ (分):
10
有効径 (%):
80
基板裏面側:
Commercial Polish
コーティングスペック:
Ravg >99% @ 2800 - 3600nm (5° AOI, p-polarization)
GDD スペック:
500fs2 @ 2800 - 3600nm (5° AOI, p-polarization)
波長範囲 (nm):
2800 - 3600
イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
コーティングタイプ:
Dielectric
コーティング:
Highly-Positive Dispersive (2800-3600nm)
設計波長 DWL (nm):
3200
直径 (mm):
25.40 +0.00/-0.05
全厚 (mm):
6.35 ±0.20
入射角 (°):
5
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

法規制対応状況

RoHS 2015/863:
適合証明書:
Reach 235:

製品群全体の紹介

  • 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
  • >99.9%の最小反射率 (p偏光)
  • 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
  • 中赤外モードロックレーザーに最適

UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラーは、この波長領域で大抵の材料と同じ符号となる正の高度GDDを提供します。この正分散チャープミラーは、パルス圧縮やハイブリッドプリズム/ミラーコンプレッサーなどのチャープパルス増幅器システムに用いることができます。本ミラーは、5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化しながら、設置面積を小さく維持します。UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラーは、優れた熱安定性をもつ25.4mm径の合成石英基板を採用し、中赤外用超短パルスレーザーセットアップ内への実装を可能にします。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。

 
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