- 1030nmで高反射率 & 940nmで高透過率
- <±100fs2 の低群遅延分散 (GDD)
- イッテルビウム (Yb) レーザーに最適なダイクロイックミラー
- 920nmで25fsのパルス時間に対して0.75J/cm2超の高フェムト秒レーザー損傷閾値
- ほぼゼロの群遅延分散で99.5%超の反射率
- 先進的フェムト秒レーザーアプリケーションに最適
- >99.8% @ 920nm の絶対反射率
- 905 - 935nm レンジで99.5%の平均反射率
- 高レーザー損傷閾値
- 広範な単波長用レーザーミラーオプションをラインナップ
- >99.8% @ 1310nm の反射率
- 1295 - 1325nm レンジで99.5%の平均反射率
- 高レーザー損傷閾値
- 広範な単波長用レーザーミラーオプションをラインナップ
- >99.8% @ 2µm の反射率
- 1900 - 2200nm レンジで99.5%の平均反射率
- 高レーザー損傷閾値
- 広範な単波長用レーザーミラーオプションをラインナップ
- >99.8% Reflectivity at Ti:Sapphire Fundamental and Harmonic Frequencies
- 10-5 Surface Quality for Reduced Scatter in Laser Applications
- High Laser Damage Threshold
- 熱膨張係数がほぼゼロのZERODUR® 基板
- Nd:YAGの高調波で >99.5%の反射率
- 高いレーザー損傷閾値スペック
- 熱膨張係数がほぼゼロのZERODUR® 基板
- Yb:YAGの高調波で >99.8%の反射率
- 高いレーザー損傷閾値スペック
- 取付時のミラー面の応力を低減するステムデザイン
- 標準的レーザー波長で99%超の反射率
- 高感度レーザーアプリケーションにおいて散乱を低減する10-5の表面品質
- TECHSPEC® 広帯域誘電体膜コート付きステムミラー と 金属膜コート付きステムミラー もラインナップ
- アウトプットカプラー、レーザーラインミラー および Nd:YAGロッド
- R = 80% or 90% @ 1064nm のアウトプットカプラー
- 0.6% NdドープのNd:YAGロッド
- 補完する Nd:YAGレーザー用オプティクス の豊富な製品群をラインナップ
- Nd:YAG 高調波波長
- 266, 355, 532, 1064nmで反射率 >97%
- 優れた価格性能比
- Nd:YAG レーザーミラー と ローコストレーザーミラー もラインナップ
- 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
- GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
- 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
- II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
- 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
- >99.9%の最小反射率 (p偏光)
- 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
- 中赤外モードロックレーザーに最適
- 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
- 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
- 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
- ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
- -145fs2の負のGDD
- 255 - 277nm間で5°の入射角
- UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
- 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
- 5°入射で100fs2までの正GDD
- sとp偏光で99.5%超の高反射率
- 700 - 1100nmの広帯域性能
- 超短パルス用分散補償プリズムもラインナップ
- 1030nm & 1064nmで >99.99% の反射率
- 50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns のレーザー損傷閾値
- ナノ秒, ピコ秒, およびフェムト秒レーザーパルス向けのユニバーサルデザイン
- 特注オプションで200mm径まで対応可能
- 532nmと1064nmのNd:YAGレーザー用にデザイン
- Nd:YAGの設計波長で80%の反射率
- UVグレード合成石英基板
- 設計波長で高いレーザー損傷閾値
- s偏光やp偏光に対して高反射率
- 高エネルギーのウルトラファストレーザーアプリケーションに最適
- TECHSPEC® 低GDD 超短パルスレーザーミラーもラインナップ
- 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
- 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
- チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
- 最大99.98%までの反射率
- 15J/cm2 @ 1064nmまでの設計波長で保証された高レーザー損傷閾値
- 1ppmレベルの散乱性能を持つスーパーポリッシュ基板にも対応
- その他のサイズはお問い合わせください
- Yb:YAGの高調波で >99.8%の反射率
- 認証済みの高いレーザー損傷閾値
- 10-5の表面品質によりレーザーアプリケーションでの散乱を低減
- TECHSPEC® レーザーミラー基板やTECHSPEC® Nd:YAG レーザーミラーもラインナップ
- Nd:YAGの高調波で >99.2%の反射率
- 高いレーザー誘起損傷閾値スペック
- 10-5の表面品質により繊細なレーザーアプリケーションでの散乱を低減
- TECHSPEC® レーザーミラー基板やTECHSPEC® Yb:YAG レーザーミラーもラインナップ
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
- イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
- 設計波長域で 0±20fs2までの低GDD
- 超短パルスビームステアリング用に高反射率 & 低群遅延分散 (GDD)
- イオンビームスパッタリング (IBS) コーティングにより散乱と吸収を最小化
- チタンサファイアとYbドーブレーザーの基本波と第二高調波の両方でほぼゼロの群遅延分散
- 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
- 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
- チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
- ウルトラファスト用チャープコーティング
- 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
- 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
- Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
- 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
- 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
- 60nmの帯域幅で99.8%超の最小反射率 (p偏光)
- Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
- ウルトラファスト用チャープコーティング
- 共通するファイバーレーザー用にデザイン
- 1030 ~ 1090nmにて99.2%以上の反射率
- 高い損傷閾値
- 1.5J/cm2までの高い損傷閾値
- 低損失な誘電体膜コーティング
- 193nm と 248nm レーザー用にデザイン
- 設計波長で>99.5%の反射率
- ±15”の角度公差
- 熱的安定性の高い基板を採用
- 設計波長においてR>99.8%を実現
- 特定波長域に対して卓越した広帯域特性
- 共通のダイオードレーザー用にデザイン
- >10 J/cm2 @ 2µm, 10ns, 10Hz のレーザー損傷閾値
- ホルミウムとツリウムレーザー光源用にデザイン
- λ/7の平面度
- 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
- -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
- ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
- 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
- レーザー光の一点集光用に最適
- 中心波長で99.8%を超える反射率
- 熱的安定性に優れた合成石英基板を採用
- 設計波長で99%超の反射率
- 繊細なレーザーアプリケーションに対応する10-5の表面品質
- 532/1064nm, 635-670/1064nm or 800/1030nm の波長バンド
- TECHSPEC® Nd:YAG レーザーミラーもラインナップ
- 設計波長域で最小±20fs2までのGDD
- 99.9%超の反射率
- チタンサファイアやイッテルビウム (Yb) ドープの超短パルスレーザーに最適
- 600 - 1000nm or 800 – 1150nm で99%を超える反射率
- 最小で 0±20fs2 までの低群遅延分散
- チタンサファイヤやYbドープレーザーに最適
- 標準的インチサイズをラインナップ
- TECHSPEC® 超短パルスレーザー用凹面反射強化銀ミラーもラインナップ
- 45°入射で入射円偏光状態を維持
- 532 or 1064nmで最大99.9% およびアライメント用の650nmで80%の反射率
- 12.7、25.4、および50.8mm径のデザインをラインナップ
- 設計波長で99.5%超の反射率
- 低熱膨張係数
- 532/1064nm or 635/670/1064nm の波長バンド
- R >99.5% @ 755nm と R >90% @ 625 – 650nm
- 10-5の表面品質とλ/10の平面度
- 皮膚科学的アプリケーションでの使用に最適
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