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UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー

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UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors

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  • 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
  • >99.9%の最小反射率 (p偏光)
  • 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
  • 中赤外モードロックレーザーに最適

UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラーは、この波長領域で大抵の材料と同じ符号となる正の高度GDDを提供します。この正分散チャープミラーは、パルス圧縮やハイブリッドプリズム/ミラーコンプレッサーなどのチャープパルス増幅器システムに用いることができます。本ミラーは、5°の設計入射角で一対の超短パルス用ミラー間の反射回数を最大化しながら、設置面積を小さく維持します。UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラーは、優れた熱安定性をもつ25.4mm径の合成石英基板を採用し、中赤外用超短パルスレーザーセットアップ内への実装を可能にします。ご使用のレーザーシステムが特注のサイズや波長、もしくはパルス特性を必要とする場合は、お問い合わせください。

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特注

エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平面度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

詳細は特注品の製造能力をご覧いただくか、こちらからお問い合わせください。

 
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