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800nm 高分散超短パルス用ミラー

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UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors
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  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング

800nm 高分散超短パルス用ミラーは、分散光学干渉ベースで最適化された多層膜を採用し、低群遅延分散 (GDD) と高反射率を実現します。このミラーは、5°の設計入射角時に -1300fs2のGDDとp偏光側で99.8%の最低反射率が得られます。高分散デザインの本ウルトラファストミラーは、3次とより高次の分散を制御し、高いビーム安定性を実現します。800nm 高分散超短パルス用ミラーは、チタンサファイアレーザーからなどの超短パルス光のパルス圧縮や分散補償に理想的です。10-5の表面品質とλ/10のイレギュラリティを持つ合成石英基板を採用し、標準的なインチサイズをラインナップします。

共通仕様

ウェッジ (分):
10 ±5
有効径 (%):
80
基板裏面側:
Commercial Polish
イレギュラリティ (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
コーティングタイプ:
Dielectric
基板:
Fused Silica (Corning 7980)

商品一覧

 波長範囲 (nm)  設計波長 (nm)  直径 (mm)   全厚 (mm)  入射角 (°)  比較する   商品コード   価格 (税別)  カートに入れる
780 - 830 800 12.70 6.35 5
720 - 840 780 25.40 6.35 20
780 - 830 800 25.40 6.35 5

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