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UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー

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  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン

UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラーは、45°入射時の超短パルスビーム伝播中のビーム圧縮や分散補償用にデザインされています。この超短パルス用ミラーは、多層のマグネトロンスパッタコーティングの最適化により、725nmから1000nmまでで負の群遅延分散 (GDD) と高反射率が得られます。また光の散乱を最小化する高い表面品質とイレギュラリティの低いレーザーグレード基板を採用し、反射する超短パルスの光パワーや強度の維持を可能にします。UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラーは、チタンサファイアなどのフェムト秒レーザーから出射した超短パルス伝播中のパルス圧縮や分散補償に最適です。別の入射角やサイズ、或いは設計波長をもつ超短パルス チャープミラーが必要なアプリケーションは、別途お問い合わせください。

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技術情報

特注品

エドモンド・オプティクスでは、お客様の特定のアプリケーション要件に合わせたオプティクスおよびイメージング部品の包括的な特注品製造サービスをご提供しています。試作段階でも量産準備中でも、お客様のニーズに応じた柔軟なソリューションをご用意しております。経験豊富なエンジニアが、構想から完成までサポートいたします。

当社の対応範囲には以下が含まれます:

  • 特注寸法、材料、コーティングなど
  • 高精度な表面品質と平坦度
  • 厳密な公差と複雑な形状
  • 試作から量産まで対応可能な生産スケーラビリティ

詳細は特注品の製造能力をご覧いただくか、こちらからお問い合わせください。

 
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