高解像力顕微鏡用スターターゲット

製品群全体の紹介

• 最小パターン寸法 - 100nm と 3300本/mm
• 高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造
• ネガパターンデザイン

高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、高精度な電子ビームリソグラフィーを用いて製造されます。透過率が広帯域 (DUV-VIS-NIR) な10 x 10mmサイズの合成石英基板に高光学濃度のクロム層を施し、それをエッチングすることでパターンが形成されます。クロム層を除去することで、最小100nmサイズのパターンが作られます。高解像力顕微鏡用スライドターゲットは、卓越した寸法的安定性があり、金属製の顕微鏡用スライドホルダー内に固定されます。ネガティブパターンの本ターゲットは、パターン自体が透明なのに対し、パターン以外の背景部はクロム層によって光が遮断されます。

高解像力顕微鏡用USAFターゲット

高解像力顕微鏡用USAFターゲットは、7.5~3300本/mmまでの水平と垂直方向の59ラインパターンにより、透過光での物体の解像限界を容易に決定することができます。本ターゲットには直径 4.0~0.25μmの5つのピンホールパターンもあるため、マイクロイメージングオプティクスの詳細な性能評価が可能です。

高解像力顕微鏡用スターターゲット

高解像力顕微鏡用スターターゲットは、5つのジーメンススターで構成され、ターゲット中央のテーパー状パターンの先端は150nmの最小幅で正確に作られています。このターゲットは、高NAを持つ顕微鏡用対物レンズの解像力評価に最適です。

高解像力顕微鏡用チェッカーボード

高解像力顕微鏡用チェッカーボードは、9.0 x 9.0mm~50 x 50µmまでの正方形パターンで構成されます。チェッカーボードは、画像の歪みやそりのテスト、及び直線のシャープなエッジを利用した画質評価に最適です。