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USAF 1951タ-ゲット ポジ 50.8 x 50.8 高解像度

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コーティング:
Vacuum-Deposited Durable Chromium
基板: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Float Glass
光学濃度 OD (平均):
≥3.0
解像力/分解能:
Minimum: Group 0, Element 1
Maximum: Group 9, Element 3
寸法 (インチ):
2 x 2 ±0.04
表面品質 (キズ-ブツ):
20-10
全厚 (mm):
1.50 ±0.05
タイプ:
Positive Target
端面:
Beveled
平面度 (mm):
≤0.00254
補足:
Pattern Location is Centered
オプション: Displays New, Clearance, or RCD options
High Resolution
NIST 認証:
No

法規制対応状況

RoHS 2015/863:
Reach 223:
適合証明書:

製品群全体の紹介

  • ガラス上にネガパターンかポジパターン
  • 2サイズをラインナップ
  • 保管ケースと空間周波数チャート付属
  • 高解像度ターゲット (645本/mm までに対応) をラインナップ

USAF 1951 解像力ターゲットは、ポジパターン (無色透明な基板上に不透明なクロムパターン) かネガパターン (クロム蒸着した不透明な基板上に無色透明なパターン) のいずれかでラインナップします。ポジパターンは、顕微鏡や拡大鏡の品質管理用に推奨されます。ネガパターンは、コリメーターやその他の照明付きテスト装置用に最適です。USAF 1951 解像力ターゲットは、保管ケースと空間周波数チャートを付属します。MIL-S-150A規格に準拠。

技術情報

USAF 1951 解像力ターゲットの空間周波数 (本/mm)
ライン数
グループ数
高解像度ターゲットのみ
-2 -1 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9
1 0.250 0.500 1.00 2.00 4.00 8.00 16.00 32.0 64.0 128.0 256.0 512.0
2 0.280 0.561 1.12 2.24 4.49 8.98 17.95 36.0 71.8 144.0 287.0 575.0
3 0.315 0.630 1.26 2.52 5.04 10.10 20.16 40.3 80.6 161.0 323.0 645.0
4 0.353 0.707 1.41 2.83 5.66 11.30 22.62 45.3 90.5 181.0 362.0
5 0.397 0.793 1.59 3.17 6.35 12.70 25.39 50.8 102.0 203.0 406.0
6 0.445 0.891 1.78 3.56 7.13 14.30 28.50 57.0 114.0 228.0 456.0
 
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