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高エネルギーのUV光子により、精度と性能が向上 |
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従来のUVレーザーは極めて高価で大型だった |
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新世代の小型・低価格のUVレーザーがますます身近なものに |
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半導体検査、顕微鏡、殺菌の進化に貢献 |
多くのレーザーオプティクスのアプリケーションは、より短い紫外線波長を使用する方向にシフトしています。それは、解像度を向上させ、周囲への加熱を最小限に抑えながら非常に小さく精密な特徴を生み出すことができるためです。最近まで、連続波 (CW) UVレーザー光は高コストで大型のため、特に大学の研究室など、多くの場面で使用されることはありませんでした。現在、小型でコスト効果の高いUVレーザーの登場によって、このバリアが取り除かれました。その結果、UVアプリケーションは、微細加工からUVラマン分光、病原体の不活性化に至るまで拡大しました。
集光されたレーザーのスポットサイズは波長に比例するため、UVレーザーは赤外光や可視光よりも高い空間分解能を実現します。そのため、半導体産業や微細加工における精密な欠陥検査に使用することができます。多くの材料を加工する際、UVレーザーは材料を蒸発・溶融させるのではなく、原子結合を直接切断できるため、結果的に周辺に与える熱を抑えることができます。UV波長は高いエネルギーを有するため、タンパク質などの生体分子の蛍光励起に理想的です。これは、多くのバイオメディカルアプリケーションにとって有益です。また、UVレーザーはハイパワーのUVC放射 (200 - 280 nmの波長) を照射することによってUVCランプやLEDよりも効果的に表面消毒ができるため、殺菌システムの効果を高めることができます。1
Figure 1: UVレーザーは蛍光顕微鏡やバイオメディカルシステム (左) や潜在的病原菌を除去するための表面除菌 (右) などの幅広いアプリケーションにとって有益である。 1
連続波 (CW) UVレーザーは、これまで利得媒質としてイオン化されたアルゴンガスを利用するか、周波数4倍化された近赤外ネオジムレーザーを用いて機能してきました。周波数4倍化システムは最初のビームを一度2倍化するために2つの外部共振器を必要とし、その後さらに別の共振器でこの工程を繰り返します。2 このシステムは複雑なものとなり、この両方とアルゴンイオンレーザーを含めると少なくとも靴箱2つ分の大きさになります。そのため、ポータブルデバイスに使用することは不可能でした。
UVレーザー技術の進歩によってより小型で低価格のデバイスが可能になりました。UVC Photonics社が開発した新しいプラセオジム添加フッ化イットリウムリチウム (YLF) レーザーは周波数4倍化ではなく周波数2倍化によって261nmのレーザービームを生成します (Figure 2)。2 そのため、システムの複雑さと必要な部品点数を大幅に削減することができます。このレーザーは半導体レーザーと同様に動作し、共振器ロックや温度安定化のための複雑な電子部品も必要としません。
Figure 2: UVC Photonics社のコンパクトなUVレーザーは青色励起ダイオード、プラセオジウム結晶、第二高調波発生 (SHG) 用結晶、共振器出力ミラーで構成されている。2
写真提供:UVC Photonics社
UVC Photonics社のレーザーは、261nmで10mWを超えるCW出力を達成し、動作に必要な消費電力は5W未満、サイズは僅か22 x 24 x 71mm です。1 こうした特性から、このレーザーは、ポータブルシステムや携帯用システム、従来のUVレーザーではコスト的に採用が難しかった大学の研究室や産業用途に最適な製品となっています。アルゴンイオンレーザーは通常十数kWの消費電力で十数Wの出力、周波数4倍化UVレーザーは500mW以上の出力が可能です。従来の技術のほうが高い出力が可能ではありますが、著しく大きなサイズとコストのため、特定のアプリケーションにとっては魅力的な選択肢とは言えません。また、この半導体レーザーモジュールの狭い線幅とCW機能はUVラマン分光にも適しています。詳細は、UVC Photonics社のウェブサイトでご覧いただけます。
エドモンド・オプティクスは、UV波長用をはじめ、様々なレーザーオプティクスの設計・製造を行っています。厳しい表面公差と高いレーザー損傷閾値により、当社のUV用レーザーオプティクスはUVレーザーシステムの厳しい要求を満たすことができます。266nm (Nd:YAGレーザーの第4高調波) 用に設計された多くの光学部品は261nmでも十分機能します。また、お客様のアプリケーションに合わせてコーティングや部品の形状を特注することも可能です。
Nd:YAG レーザーミラー
IBS レーザーミラー
ハードコート OD 4.0 5nmバンドパスフィルター
Vega™ レーザーライン用ビームエキスパンダー
はい。一部の高精度な実験室用途では10-100 nmの極端紫外 (EUV) 波長に移行しつつありますが、産業界ではまだ広く使用されていません。このトレンドについての詳細はこちらでご覧いただけます。
はい。UVレーザー放射の高いエネルギーによって光学コーティングと基板は経年劣化するため、UVレーザー用光学部品は消耗品となっています。
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