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より身近になった紫外 (UV) レーザーが切り開く新たな可能性。従来のUVレーザーは極めて高価で大型だったが、高エネルギーのUV光子により、精度と性能が向上し、新世代の小型・低価格のUVレーザーがますます身近に。半導体検査、顕微鏡、殺菌の進化に貢献。

コンパクトで小型化された対物レンズは、顕微鏡システムをポータブルにすることができ、現場での迅速な作業を可能にします。

UV, IR, 広帯域, 及び超短パルスのレーザーは、分光解析からマイクロマシニング、そしてレーザー手術に至る非常に幅広い用途に必要不可欠です。しかしながら、こうした不可視レーザー用のビーム整形オプティクス、例えばビームエキスパンダーなどを見つけるのは比較的困難です。

光源やデジタルセンサー、そしてコーティングチャンバーのテクノロジーが進化を続ける中、光学フィルターも自然と進化し、前進し続けていくことでしょう。

2018年で特筆すべき4つのトレンドは、レーザーアプリケーション向けの反射型オプティクス、小型化された顕微鏡用対物レンズ、イメージングでの液体レンズの活用、そして極端紫外 (EUV) 用オプティクスです。

生体組織やポリマーを含めた多くの材料には2µm近傍で独自の吸収特性があり、ツリウム (2080nm) やホルミウム (2100nm) レーザーなど、このスペクトル領域のレーザーは、周辺領域への損傷を最小限に抑えながら非常に小さなエリアを加熱することができます。こうした特性によって、2µmレーザーは材料加工やレーザー手術など幅広い用途で使用することができます。

超薄型ロングパスフィルターは、超薄型でフレキシブルなポリマーと染料から作られます。本フィルターは、傷がつきにくく、産業用のハードコーティングと同等の耐久性を有します。

サブオングストロームの表面粗さをもつスーパーポリッシュ加工の光学部品は精密なレーザーオプティクスアプリケーションに最適です。

極端紫外 (EUV) とは、おおよそ10nmから100nmの波長域を指し、これはX線から深紫外 (DUV) のスペクトル範囲に該当します。このEUV域には、リソグラフィ、ナノスケールイメージング、分光など、多くの重要なアプリケーションが存在し、近年は小型EUV光源の開発に多くの努力が注がれてきました。

ハイパースペクトルイメージング (HSI )とマルチスペクトルイメージング (MSI) は、専用のビジョンシステムを用いて、可視スペクトルを除いた電磁スペクトルの拡張領域から特別な画像情報を取得する2つの相関する技術です。

不要な迷光を最小化するSCHWARZ ブラックミラーについて。不要な透過は、ミラーの基板を直接通過したり、基板内でゴースト反射を起こしたりするため、レーザーシステムの性能を低下させ、さらにはレーザーの安全性の問題を引き起こすこともあります。

次世代の球面レンズは、直径や偏芯、及び表面品質といった公差をより厳しいものにしていかなければなりません。これらのスペックは、レンズ鏡筒中に"単純に落とす"だけで光軸を合わせることができるため、動的アライメント作業を始めとする複雑な組み立て工程を低減し、アライメント作業を容易にして、波面収差も減らしてくれます。