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超短パルスレーザーは、持続時間がピコ秒、フェムト秒、あるいはアト秒の非常に短いパルスを出射します。パルス持続時間の下限に到達したフーリエ変換限界パルスは、ハイゼンベルグの不確定性原理によって、相当の波長の拡がりをもつ広い帯域幅を有します。

より身近になった紫外 (UV) レーザーが切り開く新たな可能性。従来のUVレーザーは極めて高価で大型だったが、高エネルギーのUV光子により、精度と性能が向上し、新世代の小型・低価格のUVレーザーがますます身近に。半導体検査、顕微鏡、殺菌の進化に貢献。

障害物の背後に隠れた物体は、レーザー、高感度カメラ、そしてコンピューターによる再構成法の組み合わせを用い、その物体の周辺で光を散乱させることで検出可能になります。非視線方向イメージング法は、レーザーパルスを物体に向けて送り、物体から戻ってくる散乱光の飛行時間を利用して物体とディテクター間の距離を測定するLiDAR (光検出と測距) のそれに類似しています。

超短パルスレーザーは、その短いパルス持続時間と高いピークパワーから、材料加工から医療用レーザー、そして非線形イメージングや顕微鏡学まで、広範なアプリケーションで最適となります。

コネクテッドワールドを実現する高速かつ安全なワイヤレス通信、フリースペース光通信とは？レーザーを用いたフリースペース光 (FSO) 通信には、衛星から望遠鏡のような地上の基地局への伝送、衛星から別の衛星への伝送、地上の異なる場所間の伝送等が含まれます。

センサーやオートメーション技術の急速な進化は、マシンビジョン業界に大きな変化をもたらし、人工知能 (AI)、ビジョンソフトウェア、斬新なハードウェアアーキテクチャを通じて、製造、ヘルスケア、自律走行車、ロボット工学などの業界を最適化しています。

サブオングストロームの表面粗さをもつスーパーポリッシュ加工の光学部品は精密なレーザーオプティクスアプリケーションに最適です。

生体組織やポリマーを含めた多くの材料には2µm近傍で独自の吸収特性があり、ツリウム (2080nm) やホルミウム (2100nm) レーザーなど、このスペクトル領域のレーザーは、周辺領域への損傷を最小限に抑えながら非常に小さなエリアを加熱することができます。こうした特性によって、2µmレーザーは材料加工やレーザー手術など幅広い用途で使用することができます。

製品ライフサイクルの崩壊により、オプティクスやイメージングに依存するデバイスや装置、そしてプラットフォームの成功には、迅速なプロトタイピングが不可欠になりました。

不要な迷光を最小化するSCHWARZ ブラックミラーについて。不要な透過は、ミラーの基板を直接通過したり、基板内でゴースト反射を起こしたりするため、レーザーシステムの性能を低下させ、さらにはレーザーの安全性の問題を引き起こすこともあります。

単一材料の非球面アクロマートレンズは、複数の材料の代わりに独自の形状を用いることでアクロマティックな性能を実現させるという、従来の概念を超える新たなタイプのレンズです。

多くの精密レーザーアプリケーションにとって、ガウス分布のレーザービームをフラットトップビームまたはベッセルビームに整形することは重要です。一般的には屈折型ビーム整形オプティクスが用いられますが、反射型ビームシェイパーとアキシコンミラーを使用することで、透過損失を排除し、よりハイパワーのレーザーが扱えるようになります。

探査機パーサヴィアランスは現在、冷たく乾いた火星の表面を走行し、太古の微生物の生命の痕跡を探しています。パーサヴィアランスには23台のカメラが搭載されており、操縦とミッションの遂行を助けています。

コンパクトで小型化された対物レンズは、顕微鏡システムをポータブルにすることができ、現場での迅速な作業を可能にします。

UV, IR, 広帯域, 及び超短パルスのレーザーは、分光解析からマイクロマシニング、そしてレーザー手術に至る非常に幅広い用途に必要不可欠です。しかしながら、こうした不可視レーザー用のビーム整形オプティクス、例えばビームエキスパンダーなどを見つけるのは比較的困難です。

過去数十年にわたり、携帯電話とスマートフォンのカメラ技術の進化は、相補型金属酸化膜半導体 (CMOS) 技術における開発の最前線にありました。そしてこのことが、センサーとその製造方法の双方の改善へとつながりました。

反射率が 99.8% ～ 99.999% の高反射ミラーは、スループットを最大化しながらビームステアリングを行う上で、多くのレーザーシステムにとって重要な部品です。

過酷な環境内で用いられるイメージングレンズは、標準的レンズに求められる以上の特別な要件が求められます。FAやロボット工学、また工業用検査に用いられるレンズは、振動や衝撃、また温度変化やコンタミに晒されることがしばしあります。

極端紫外 (EUV) とは、おおよそ10nmから100nmの波長域を指し、これはX線から深紫外 (DUV) のスペクトル範囲に該当します。このEUV域には、リソグラフィ、ナノスケールイメージング、分光など、多くの重要なアプリケーションが存在し、近年は小型EUV光源の開発に多くの努力が注がれてきました。