Sill Optics 可変ビームエキスパンダーは、レーザーシステム内のフォーカス径、焦点位置、およびビーム伝搬を最適化するようデザインされています。本ビームエキスパンダー内のすべての光学素子は、特殊な低吸収コーティングを施した合成石英基板で構成され、熱の影響を最小限に抑えます。 このビームエキスパンダーは、小さなビーム径による高い熱応力に耐え、高平均出力か高ピーク出力のレーザーの利用においても安定かつ信頼性の高い性能を提供します。Sill Optics 可変ビームエキスパンダーは、355nm、532nm、および1064nmの設計波長用にラインナップしており、0.3J/cm² (1s, 50Hz) までのパルスレーザーに向けて高い損傷閾値があります。本ビームエキスパンダーは、試作、太陽電池製造、共焦点顕微鏡、あるいは研究開発など、倍率変更が必要となるハイパワーレーザーアプリケーションに最適です。
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