261.4nm用にデザインされたレンズ、ミラーおよびウインドウ
高エネルギーUVフォトンに耐える高い損傷閾値
UVC Photonics モデル261 レーザーとの使用に最適
261.4nm レーザー用オプティクスは、UVレーザーシステムの要求の厳しいニーズに対応するため、厳格な面公差と高レーザー損傷閾値で製造されます。261.4nm用にデザインされたレンズ、ミラー、ウインドウをラインナップし、ビームフォーカシングやビームステアリング、および繊細な部品の保護に向けたソリューションを提供します。フィルターやビームエキスパンダー、ビーム整形用オプティクスを始め、266nmで光学設計され、261nmでも良好に機能するオプティクスも、UV検出や同測定製品との使用に向けラインナップします。261.4nm レーザー用オプティクスは、 UVC Photonics モデル261 レーザー などのUVレーザーとの使用や、UV消毒システム、生物医学蛍光学、およびUVラマン分光を始めとするアプリケーションでの使用に最適です。特注のサイズや形状、もしくはコーティングをもつ261.4nm用光学部品がアプリケーション上必要となる場合は、お問い合わせください。
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