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UltraFast Innovations (UFI)

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UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
  • チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
  • 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
  • -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99％) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm
800nm 高分散超短パルス用ミラー 800nm 高分散超短パルス用ミラー
  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
1030nm 高分散超短パルスミラー 1030nm 高分散超短パルスミラー
  • 7°入射で -1000fs2 までの高次群遅延分散 (GDD)
  • 60nmの帯域幅で99.8％超の最小反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーの分散補償用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー 1030nm 高分散広帯域超短パルス用ミラー
  • 5°入射で -200fs2 の群遅延分散 (GDD)
  • 950 - 1120nm 間で 99.8%超の反射率 (p偏光)
  • Ybドープファイバーレーザーのパルス圧縮用にデザイン
  • 広帯域ウルトラファスト用チャープコーティング
2μm 高分散広帯域超短パルスミラー 2μm 高分散広帯域超短パルスミラー
  • 2000 - 2200nm 間で 99.9%超の反射率
  • -1000fs2 のGDD 群遅延分散 (5°入射時)
  • ツリウムやホルミウムレーザーの<100fs パルス圧縮に最適
  • 広帯域なウルトラファスト用チャープコーティング
UltraFast Innovations (UFI) High-Power Low-Loss Laser Mirrors UltraFast Innovations (UFI) ハイパワー用低損失ミラー
  • 1030nm & 1064nmで >99.99% の反射率
  • 50 J/cm2 @ 1064nm, 100Hz, 8ns のレーザー損傷閾値
  • ナノ秒, ピコ秒, およびフェムト秒レーザーパルス向けのユニバーサルデザイン
  • 特注オプションで200mm径まで対応可能
UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 正分散 超短パルス用ミラー
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
  • -145fs2の負のGDD
  • 255 - 277nm間で5°の入射角
  • UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
  • 独自のUV負分散超短パルス用コーティング
UltraFast Innovations (UFI) 1030nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors with Reduced Thermal Lensing UltraFast Innovations (UFI) 1030nm 熱レンズ効果低減 高分散超短パルス用ミラー
  • 熱レンズ効果を低減した超短パルス用高分散コーティング
  • 5°入射で-1000fs2までの高い負GDD
  • 50nmのバンド幅にわたり 99.5%超の最小反射率 (p偏光)
  • ハイパワー超短レーザーパルスの生成に最適
UltraFast Innovations (UFI) 3200nm Highly-Positive Dispersive Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3020nm 高度正分散 超短パルス用ミラー
  • 5°の入射角度で500 fs2の正のGDD
  • >99.9%の最小反射率 (p偏光)
  • 2800 – 3600nmに対応する中赤外用広帯域コーティングデザイン
  • 中赤外モードロックレーザーに最適
UltraFast Innovations (UFI) Third Order Dispersion (TOD) Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 3次分散 (TOD) 超短パルス用ミラー
  • 7°入射で-2500fs3 までの高度3次負分散 (TOD)
  • GDDの追加を招くことなくTODを相殺するのに最適
  • 0fs2の低群遅延分散 (GDD)
  • II-VI LightSmyth™ 透過型回折格子もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
  • 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
  • ピーク反射率38%の多層膜コーティング
  • ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
  • 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
  • 在庫品でラインナップ
  • 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし

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