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レーザーミラー

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PeakPower 高LDT 低GDD 超短パルス用ミラー PeakPower 高LDT 低GDD 超短パルス用ミラー
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  • 920nmで25fsのパルス時間に対して0.75J/cm2超の高フェムト秒レーザー損傷閾値
  • ほぼゼロの群遅延分散で99.5%超の反射率
  • 先進的フェムト秒レーザーアプリケーションに最適
ZERODUR®製 λ/10 広帯域誘電体膜コート付き平面ミラー ZERODUR®製 λ/10 広帯域誘電体膜コート付き平面ミラー
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  • 熱膨張係数がほぼゼロのZERODUR® 基板
  • 金属膜コーティングよりも高い反射率とLDT
  • 0-45°入射用にデザインされたUV, 可視光, およびNIR用反射コーティング
  • ZERODUR®製 金属膜コート付きミラー もラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV アト秒多層膜ミラー
  • 330 アト秒パルス @ 65eV (19nm) 用にデザイン
  • ピーク反射率38%の多層膜コーティング
  • ≤1Å (オングストローム) の表面粗さのスーパーポリッシュ基板
  • 13.5nmでデザインされた EUV 平面ミラー と EUV 球面ミラー もラインナップ
  • 在庫品でラインナップ
  • 最低発注数量やコーティングのロットチャージなし
レーザー用ステムミラー レーザー用ステムミラー
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ローコスト Nd:YAG マルチラインミラー ローコスト Nd:YAG マルチラインミラー
Nd:YAG レーザー出力カプラー Nd:YAG レーザー出力カプラー
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  • 532nmと1064nmのNd:YAGレーザー用にデザイン
  • Nd:YAGの設計波長で80%の反射率
  • UVグレード合成石英基板
超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー 超短パルスレーザー用反射強化銀ミラー
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TECHSPEC® Yb:YAG Laser Line Mirrors Yb:YAG レーザーミラー
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Nd:YAG レーザーミラー Nd:YAG レーザーミラー
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800nm 高分散超短パルス用ミラー 800nm 高分散超短パルス用ミラー
  • 780 - 830nm間で99.8%超 (p偏光) の反射率
  • 5°入射で-1300fs2 のGDD 群遅延分散
  • チタンサファイアウルトラファストレーザーのパルス圧縮用に最適
  • ウルトラファスト用チャープコーティング
レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ) レーザーライン λ/20 高精度直角プリズムミラー (斜面コートタイプ)
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  • 設計波長で>99.5%の反射率
  • ±15”の角度公差
  • 熱的安定性の高い基板を採用
UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー UltraFast Innovations (UFI) 45° 入射 超短パルス用チャープミラー
  • 高い反射率と負の群遅延分散 (GDD)
  • 45°入射時の分散補償とビーム圧縮に最適
  • チタンサファイアを始めとするフェムト秒レーザー用にデザイン
ナイフエッジ・ピックオフミラー ナイフエッジ・ピックオフミラー
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  • 隣接して伝播する2つのビームを分離するようデザイン
  • 45°面取り
  • ナイフエッジ面にまでコーティングされた開口
  • 反射強化アルミ、保護膜付き金、保護膜付き銀のコーティングオプション
広帯域 IR レーザーミラー 広帯域 IR レーザーミラー
  • 2~20μmにおいて98%以上の反射率
  • 銅基板製ミラー
  • 高損傷閾値
エキシマレーザーミラー エキシマレーザーミラー
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  • 1.5J/cm2までの高い損傷閾値
  • 低損失な誘電体膜コーティング
  • 193nm と 248nm レーザー用にデザイン
高性能レーザーダイオードミラー 高性能レーザーダイオードミラー
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  • 設計波長においてR>99.8％を実現
  • 特定波長域に対して卓越した広帯域特性
  • 共通のダイオードレーザー用にデザイン
精密広帯域レーザーミラー 精密広帯域レーザーミラー
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  • チューナブルレーザーや複数のレーザー光源の反射用に最適
  • 入射角 0~45° の全偏光状態に対して高反射率を実現
  • 豊富なコーティングオプション
レーザーミラー基板 レーザーミラー基板
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  • λ/10の平面度と10-5の表面品質
  • 高品質合成石英基板
  • 様々な形状やサイズをラインナップ
  • ウインドウ基板もラインナップ
可視光レーザーダイオード用ミラー 可視光レーザーダイオード用ミラー
  • 可視光レーザーダイオードの発振波長で95%以上の反射率
  • 複数の反射面を持つシステムに最適
  • コーティングは、波長 633nmで45°の入射時に最適化
未コート レーザーウインドウ基板 未コート レーザーウインドウ基板
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TECHSPEC® Superpolished Substrates スーパーポリッシュ基板
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  • 両面を1Å RMS 以下の面粗さでスーパーポリッシュ
  • UVやハイパワーレーザーアプリケーションに最適な低散乱面
  • エッジ研磨＆面取りが施されたUVグレード 合成石英基板
  • 6mmから76.2mmまでの特注サイズと形状を<0.5Å未満の面粗さで社内製造可能
Extreme Ultraviolet (EUV) Flat Mirrors 極端紫外 (EUV) 用平面ミラー
  • 13.5nmで最大の反射率を実現
  • EUVビームステアリングや高調波分離用にデザイン
  • 5°と45°の入射角バージョンをラインナップ
精密紫外用ミラー 精密紫外用ミラー
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  • 120nmと190nmの設計波長
  • 特定波長域にわたり85%以上の平均反射率を実現
  • 可視域全体まで反射率を高める金属膜コーティングを採用
ローコストレーザーミラー ローコストレーザーミラー New
  • 設計波長で 99％超の反射率
  • λ /10 の平面度
  • Nd:YAG, Yb:YAG, ダイオードレーザー用にデザイン
  • 優れたコストパフォーマンス
デュアルバンド レーザーミラー デュアルバンド レーザーミラー
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  • 設計波長で99％超の反射率
  • 繊細なレーザーアプリケーションに対応する10-5の表面品質
  • 532/1064nm, 635-670/1064nm or 800/1030nm の波長バンド
  • TECHSPEC® Nd:YAG レーザーミラーもラインナップ
Polarization Phase Maintaining Mirrors 偏波保持ミラー
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  • 45°入射で入射円偏光状態を維持
  • 532 or 1064nmで最大99.9% およびアライメント用の650nmで80%の反射率
  • 12.7、25.4、および50.8mm径のデザインをラインナップ
UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs UltraFast Innovations (UFI) 超広帯域 相補型チャープミラーペア
  • チャープ-パルス増幅システムや超広帯域レーザー発振器に最適
  • 分散補償をサポートする超広帯域デザイン
  • -60fs2までの低い負GDDと高反射率 (>99％) @ 600 – 950nm or 650 - 1350nm
UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm Negative Dispersion UV Ultrafast Mirrors UltraFast Innovations (UFI) 255-277nm 負分散 UV超短パルス用ミラー
  • -145fs2の負のGDD
  • 255 - 277nm間で5°の入射角
  • UV超短パルスレーザービームのパルス圧縮または分散補償に最適
  • 独自のUV負分散超短パルス用コーティング

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