Coherent® LightSmyth™ 139nm, 50nm Groove Depth, 25mm Sq. Linear Silicon Nanostamp

製品群全体の紹介

• ナノスケールテクスチャーの溝付き面
• 溝の周期と深さ別にラインナップ
• ナノフォトニクス研究用途に最適

Coherent® LightSmyth™ ナノパターン シリコンスタンプは、単結晶シリコン基板上のパターン化されたナノスケールテクスチャーで構成されます。反応性イオンエッチングにより、従来型のグレーティングに似た、台形の断面形状をもつ線形溝が基板面内にエッチングされています。エッチングプロセスによって溝の周期と深さを変えられ、格子の様なより複雑なパターンを作ることができます。Coherent® LightSmyth™ ナノパターン シリコンスタンプは、オプティクスやフォトニクス、生物学、化学、ナノインプリント、マイクロ流体工学の分野におけるナノフォトニクス研究アプリケーションに最適です。

補足： II-VI社は現在Coherent社になっています。